650nm帶通濾光片技術參數：
中心波長：650+/-2nm
帶通濾光片入射角 ：0°
半峰值帶寬 ：50nm
峰值透過率 ：>90%( 按客戶需求）
產品尺寸 ：3mm-80mm( 可訂制 )
截止波長 ：200nm-1100nm( 按客戶需求）
截止深度 ：>OD4-OD6 UV-NIR
產品材質 ：光學級別類玻璃（ K9,BK7,B270,D263T,JGS1,顏色玻璃,浮法玻璃等 )
表面光潔度 ：國標三級，美軍標60-40
真空離子電鍍法是目前光學行業使用比較多的濾光片鍍膜工藝工藝，物理氣相沉積術（PVD）屬于光學鍍膜最重要的工藝范疇。首先在真空鍍膜機中利用離子轟擊清洗濾光片待鍍膜基板表面，接著啟動蒸發源部分氣體在等離子體轟擊中離子化，并被預熱濾光片基板表面的負壓加速，因此，在層基板和部分新形成的金屬層連續被燒蝕的同時，汽化金屬層便生長在濾光片基板上。電子束蒸發技術相結合，可以得到較高的沉積率。
標簽:
650nm濾光片
