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什么是離子輔助沉積技術(shù)?
離子輔助沉積技術(shù)英文縮寫為：IAD，是一種真空蒸發(fā)為基礎(chǔ)的輔助沉積方法。真空蒸發(fā)鍍膜過程中沉積的原子或者分子在基片表面的有限遷移率形成柱狀的薄膜結(jié)構(gòu)，所以在沉積的過程中對(duì)生長的薄膜利用離子源轟擊，講離子的動(dòng)量傳給沉積的原子或分子，使沉積的分子或者原子的遷移率得到提高，從而抑制了柱狀結(jié)構(gòu)的生長，使得光學(xué)介質(zhì)薄膜的密度增加，光學(xué)性能進(jìn)一步提高。
當(dāng)前，離子輔助沉積技術(shù)（IAD）已經(jīng)成為2018-04-10
