答：離子束輔助沉積可以在真空蒸鍍的同時(shí)用一定能量、種類、流強(qiáng)的離子束轟擊正在生長的表面而形成所需要的厚度和光學(xué)特性的薄膜。

主要的優(yōu)點(diǎn)有：

a.膜層和基底界面形成連續(xù)的混合，提高附著力。

b.鍍膜的密度與整塊材料的基本相同。

c.鍍膜的速率高

d.鍍膜的膜層縝密性好，孔洞減少，晶粒均勻細(xì)小，可提高抗腐蝕性能。

e.工藝參數(shù)易于控制